紫外線レーザーマーク技術 材料の応用拡大 将来の成長が見られる

January 7, 2026
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熱に敏感な樹脂に 複雑なパターンを刻むか 繊細なガラスに 鮮やかな痕跡を残すかかつて不可能 と 見え て い た もの は,UV レーザー 標識 技術 に よっ て 現在 現実 に なり まし た.この分野のリーダーであるLW-UVシリーズは 独自の能力で 精密製造の新たな革命を推進しています

LW-UVシリーズ高精度UVレーザーマークシステムの技術分析

LW-UVシリーズは,紫外線レーザービームを使用して,様々な材料表面に高精度マークを作成する高精度UVレーザーマーキング機器のクラスを表しています.これらのシステムは,工業製造全域で広く採用されています.医療機器や電子機器は 卓越した加工品質,幅広い材料互換性,信頼性の高い性能により熱感のある材料の"冷凍加工"を可能にすることで通常のレーザーマークに伴うダメージを防ぐ.

紫外線 レーザー の 特質 と 利点

UVレーザーは通常,短波長スペクトルに属する355nmの波長を放出する.従来のCO2およびファイバーレーザーと比較して,UVレーザーはいくつかの明確な利点を提供しています:

  • 高精度短波長は,より小さな焦点を可能にし,マイクロ電子部品や精密儀器のスケールをマークするのに理想的なマイクロレベル精度を可能にします.
  • 材料の多用性UVレーザーエネルギーは,金属,プラスチック,ガラス,セラミック,半導体を含む様々な材料によって容易に吸収され,頻繁なレーザー変更またはパラメータ調整を排除します.
  • 冷凍加工:最低熱影響帯 (HAZ) は,プラスチックやフィルムなどの熱感のある材料の加工に不可欠な材料の溶融,変形,または変色を防止します.
  • 高コントラスト:微小な領域でも目に見えるように明確な標識を生成し,追跡性と識別アプリケーションにとって不可欠です.
主要な部品と技術特性

LW-UVシリーズはいくつかの主要なコンポーネントで構成されています.

  • UVレーザー源:高エネルギーのUVレーザー発電機 安定性,長寿性,優れた光線品質で知られています
  • ガルバノメータースキャンシステム:高速回転鏡で 材料の表面を正確にレーザー動きを制御します
  • F-テータレンズレーザービームを作業エリア全体に均等に焦点化し,複数の焦点距離オプションが利用できます.
  • 制御システム:レーザー操作,スキャンパターン,パラメータ設定のためのユーザーインターフェースを管理する高度なソフトウェア.

追加的な技術的な特徴は,簡素化された保守のためのモジュール式設計,位置確認のためのオプションの赤信号プレビュー,そして回転装置や保護用箱などの様々なアクセサリー.

産業用用途
  • 電子機器:PCB,ICチップ,デバイスのホイスを,熱感受性のある部品を損傷することなくマークする.
  • 医療機器:手術道具やインプラントや薬物の包装に 高コントラストのマークを作成します
  • 精密器具:計測器具や光学部品にマイクロメートル精度のスケールを刻む.
  • プラスチック製品:自動車部品,家電,消費品に 耐久性のあるマークを付けます
  • グラス用品:複雑なデザインを瓶,パネル,食器に 構造を損なわずに刻む
テクニカル仕様

主要な業績指標は以下の通りです.

  • レーザー波長 355nm
  • 電源オプション: 3W-20W
  • 標識面:50×50mmから200×200mm
  • 最大速度: 7000mm/s
  • 繰り返し性: ±0.001mm
  • 最小線幅:0.01mm
メンテナンス
  • オプティカル 部品 の 定期 的 清掃
  • 過熱防止のための冷却システムの検査
  • レーザー結晶を3000~6000時間ごとに交換する
  • 標識の正確性を維持するための定期的校正
将来 の 進展
  • より高い出力とエネルギー効率
  • 低コストでコンパクトな設計
  • 自動化と遠隔監視を可能にするよりスマートな制御システム
  • 航空宇宙,再生可能エネルギー,バイオ医薬品における応用拡大

製造の要求がますます洗練されるにつれてLW-UVシリーズのようなUVレーザーマーキングシステムは,業界全体で精密製造を可能にする上で,ますます重要な役割を果たす立場にあります.